Blancos de la farfulla

Pulverización catódica con magnetrón es una nueva forma de recubrimiento física de vapor, métodos de recubrimiento de evaporación en comparación con los puntos anteriores, sus muchas ventajas son evidentes. Como ha sido el desarrollo de una tecnología más madura, pulverización catódica magnetrón se ha utilizado en muchos campos.

Magnetrón principio de bombardeo iónico : se requiere electrodo el objetivo se pulveriza (cátodo ) aplicado entre el ánodo y un campos eléctricos y magnéticos ortogonales en una cámara de alto vacío lleno con un gas inerte ( por lo general de gas Ar ) , se forma el imán permanente en el material objetivo en la superficie de 250 a 350 Gauss, con campo eléctrico de alta tensión compuesta de campos electromagnéticos ortogonales . En el campo eléctrico , de gas Ar ionizado en iones positivos y electrones , el objetivo más una cierta presión negativa , la probabilidad de electrones de ionización por el efecto del campo magnético con el gas de trabajo desde el electrodo objetivo aumenta emitidas cerca del cátodo para formar un plasma de alta densidad cuerpo , iones de Ar acelera bajo la acción de la fuerza de Lorentz hacia la superficie objetivo en un bombardeo de alta velocidad de la superficie del blanco , de modo que el objetivo se pulveriza átomos de seguir el principio de transferencia de momento de la alta energía cinética hacia el sustrato superficie objetivo deposición de la película . Pulverización catódica magnetrón se divide generalmente en dos tipos: un afluente del chisporroteo y RF sputtering , afluente del dispositivo de pulverización catódica que es simple en principio , en el chisporroteo de metal, su tasa también es rápido. El uso de una gama más amplia de la pulverización catódica de RF , el bombardeo iónico puede ser un material conductor , además , de bombardeo iónico puede ser también un material no conductor , un óxido también se prepara por División de pulverización catódica reactiva , nitruro o material compuesto de carburo . Si las RF frecuencia aumenta después de convertirse en microondas chisporroteo plasma, la resonancia ciclotrón de electrones utilizada actual ( ECR) de pulverización de plasma de microondas .

Magnetrón blanco de pulverización:

Blancos de pulverización de metal, las blancos de aleación, las blancos de cerámica, cerámica boruro blanco de la farfulla, carburo, las blancos de cerámica, cerámica de nitruro de pulverización fluoruro objetivo blanco de la farfulla de cerámica, cerámica de óxido de destino, objetivo seleniuro de pulverización cerámica, metas siliciuro de pulverización de cerámica, cerámica de pulverización sulfuros de destino , telururos objetivos de cerámica de pulverización catódica, otro blanco de cerámica, blanco cerámica de óxido de cromo silicio dopado (Cr-SiO), objetivo fosfuro de indio (InP), objetivo principal de arsénico (PBAS), objetivo arseniuro de indio (InAs).

De alta densidad sputtering meta de gran pureza:

El objetivo de la pulverización catódica (pureza: 99.9% -99.999%)

1.blanco metálico:

Target níquel, Ni, Ti blanco, Ti, objetivo Zn, Zn, Cr objetivo, Cr, objetivo Mg, Mg, objetivo NB, NB, objetivo Sn, Sn, Al objetivo, Al, objetivo de indio, en, blanco Fe, Fe, objetivo de circonio y aluminio, zRAL, aluminio, blanco de titanio, TiAl, objetivo de circonio, Zr, objetivo de Al-Si, AlSi, blanco de silicio, Si, objetivo Indonesia Indonesia, objetivo de tántalo T, a, A germanio objetivo, Ge, objetivo de plata, Ag, blanco de cobalto, Co, objetivo de oro, Au, objetivo Di-s, Di-s, el LITIO objetivo, la, objetivo de itrio, Y, objetivo Ce, Ce, objetivo de tungsteno, w, blanco de acero inoxidable, el blanco de níquel-antioxidante, NiCr, objetivo de hafnio , Hf, mamografía, Mo., objetivo de hierro-níquel, Feni, objetivo de tungsteno, W, etc ..

2.diana de cerámica

Objetivo de ITO, óxido de magnesio objetivo, objetivo de óxido de hierro, un objetivo de nitruro de silicio, carburo de silicio objetivo, un objetivo de nitruro de titanio, óxido de cromo objetivo, un objetivo de óxido de zinc, sulfuro de zinc objetivo, objetivo de sílice, objetivo de óxido de silicio, de cerio dióxido de destino óxido de circonio objetivo, el objetivo de pentóxido de niobio, objetivo dióxido de titanio, blanco de dióxido de circonio, óxido de hafnio objetivo, una meta de diboruro de titanio, blanco diboruro de circonio, blanco de trióxido de tungsteno, óxido de aluminio tantalio pentóxido de destino, objetivo pentóxido de niobio, objetivo de fluoruro de magnesio, fluoruro de itrio objetivo, objetivo de seleniuro de zinc, un objetivo de nitruro de aluminio, nitruro de silicio objetivo, un objetivo de nitruro de boro, nitruro de titanio objetivo, un objetivo de carburo de silicio, de destino de litio de ácido de niobio, titanato de praseodimio objetivo, titanato de bario objetivo, objetivo de lantano titanato, objetivo óxido de níquel, blancos de pulverización.